JPIS, 국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점
JPIS, 국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점
  • 덴탈iN 기자
  • 승인 2020.07.09 11:23
  • 호수 85
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치주과학회, 국제학술지 상위 50% 진입 쾌거

대한치주과학회(회장 구영)가 발행하는 SCIE 국제학술지인 ‘Journal of Periodontal & Implant Science’(편집장 신승윤, 이하 JPIS)Thomson Reuters사가 운영하는 등재학술지 영향력 지수(impact factor) 평가에서 올해 1.847의 점수를 얻었다.

이는 국내 치의학 SCIE 학술지 중 최고로 높은 점수다.

JPIS2014SCIE급 학술지로 처음 등재되었으며, 등재 첫해의 영향력 지수는 1.145였으며, 지난해는 1.472였다.

특히 올해 JPIS는 치과계 SCIE 등재 국제학술지 전체 91개 중 40위를 차지해 상위 50%(Q2) 이내의 학술지 그룹에 처음으로 진입했다.

구영 회장은 학회 창립 60주년을 맞는 올해에 공식학술지가 국제적으로 역대 최고의 평가를 받아서 더욱 의미가 있다면서 학회지 발간에 낮 밤을 가리지 않고 힘써준 신승윤 편집장, 윤정호·박신영 편집실행이사와 편집위원들의 노고에 감사하다고 말했다.

신승윤 편집장은 “PubMed 등재 10, 그리고 SCIE 등재 6년 만에 상위 50% 그룹에 진입한 것은 큰 의미가 있다고 평가하며 상위 25% 학술지 그룹에 진입하기 위해 게재논문의 질 관리뿐만 아니라 출판윤리 강화에 더욱 노력하겠다고 밝혔다.

이어 국제학술지로서의 토대를 만들어 준 김태일 직전 편집장을 비롯한 역대 편집이사의 노고에 감사하다는 말을 전했다.

한편, 학회 창립 11년째인 1971대한치주학회지로 출발한 대한치주과학회의 공식학회지는 2010년부터는 현재와 같은 영문학회지로 학술지명이 바뀌면서 전문 영어로 발간되고 있다.

지난 10년간 JPIS에 게재된 논문 중 해외 투고는 전체의 22%를 차지하고 있으며, 교신저자의 국적별로는 미국, 일본을 비롯한 전 세계 23개국에 이르는 등 명실상부한 국제학술지로서의 면모를 갖춰 나가고 있다.

 


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